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wt-online - Ausgabe 03-2005, S. 156

Kompletter Beitrag im pdf-Format 156_2215.pdf

Beschichtungen, Simulation, Mikrosystemtechnik

Simulation vakuumbasierter Beschichtungsprozesse (mit 2 Videos)*

Molekulardynamik (MD)-Simulation als Konstruktionswerkzeug für Schichteigenschaften

Auf Basis der molekulardynamischen Simulation wird der Einstieg in die Entwicklung moderner Schicht-Substrat-Systeme der Mikrosystemtechnik aufgezeigt. Beschichter und Anwender werden in die Lage versetzt, Morphologie und Eigenspannungen von Schicht-Substrat-Systemen so exakt zu steuern, dass präzise an die geforderte Anwendung angepasste Mikrosysteme abgeleitet werden können.

MD-Simulation of vacuum based deposition processes – Method for the construction of coating properties and deduced process control

An introduction to the development of modern coatings in micro system techniques will be presented. Supported by the tool, engineers will be able to control morphology and stress of layer substrate systems in such a way that modern micro systems will be matched precisely to the required usage.

Autor:
Gottwald, B.; Klein, P.; Westkämper, E.; Gemmler, A.

Der vollständige Beitrag ist erschienen in:
wt-online 03-2005, Seite 156
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